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点击图片查看原图镀膜玻璃清洗超纯水设备
一、镀膜玻璃清洗超纯水设备概述
镀膜玻璃清洗超纯水设备，在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO＋EDI＋精混床除盐水处理工艺，确保处理后的超纯水水质出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本，水利用率高，运行可靠，经济合理。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
二、超纯水设备在镀膜玻璃清洗的应用
1.玻璃清洗、光电产品、LED、LCD显像管、液晶显示器、和阴极射线管生产中，其荧光屏内壁用喷涂法或沉淀法附着一层荧光物质，是锌或其他金属的硫化物组成的荧光粉颗粒并用硅酸钾粘合而成，其配制需用超纯水，如纯水中含铜在8ppb以上，就会引起发光变色；含铁在50ppb以上就会使发光变色、变暗、闪光跳跃；含有机物胶体、微粒、细菌等，就会降低荧光层强度及其与玻壳的粘附力，并会造成气泡、条迹、漏光点等废次品。
2.在黑白显像管荧光屏生产的12个工序中，玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗等5个工序需使用纯水，每生产一个显像管需用纯水80kg。
3.液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液，如纯水中存在着金属离子、微生物、微粒等杂质，就会使液晶显示电路发生故障，影响液晶屏质量，导致废、次品。
三、镀膜玻璃清洗用超纯水设备对水质的要求
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。
四、符合镀膜玻璃镜超纯水水质标准
镀膜玻璃镜片、光电产品、LED、LCD显像管、液晶显示器用超纯水水质标准：我公司LED、LCD显像管、液晶显示器用超纯水出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
五、镀膜玻璃清洗用超纯水设备特点
为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子树脂混床（EDI电除盐系统）系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。
六、镀膜玻璃超纯水设备制备工艺
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥18MΩ.CM）(新工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥17MΩ.CM）(新工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水对象（≥15MΩ.CM）(新工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水对象 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
七、镀膜玻璃清洗用超纯水设备应用场合
1.电解电容器生产铝箔及工作件的清洗电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液显像管和阴极射线管生产、配料用纯水
2.黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液
3.晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制
4. 集成电路生产中高纯水清洗硅片、半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路
5.LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏
6.高品质显像管、萤光粉生产、半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗
7.超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料
8.实验室和中试车间、汽车、家电表面抛光处理、光电产品、其他高科技精微产品